主题:【原创】中微半导体45纳米蚀刻机 -- 可梦之
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现在好像很多都快到光学极限了,如果要继续往小了做,用光刻的方法就不太行了。
其他的呢,就有E-beam(电子束蚀刻)好像还听到过X-Ray,Ion-Beam之类的。不过这个也有自己的问题,别的不是很清楚,E-Beam就是速度慢,虽然线宽可以很小,但是就是不能量产,不能适应工业生产。
如果真的要搞这个,作为国家策略可以做两手准备,一方面研究传统的光刻,另外也开发一下新的技术。新技术大家都在研究,说不定苹果就砸在哪个山寨上了呢?:-)
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🙂光刻机karl suss, not zeiss 龟途漫漫 字0 2009-03-04 13:49:59
🙂除非不走光学路线
🙂见过电子束用于金属表面抛光的,那是相当的光滑啊。 山海马甲 字0 2014-07-14 05:25:00
🙂这些好像技术上还不成熟 江淮客 字74 2009-03-04 21:48:15
🙂我估计光刻也就这样了。 西潜1号 字163 2009-03-04 19:38:04
🙂山寨最后还是要招安的 1 司徒彼 字86 2009-03-04 08:01:13