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主题:【原创】中微半导体45纳米蚀刻机 -- 可梦之

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家园 国产光刻机

上海微电子装备有限公司的光刻机简介:

SSA600/10型步进扫描投影光刻机用于集成电路前道工艺,可满足用户100nm工艺节点的需求。该设备采用高性能193nmArF准分子激光光源,结合大数值孔径投影物镜和离轴照明技术,可实现高分辨率和高工艺稳定性;可变数值孔径和多种照明模式可满足不同光刻分辨率和焦深要求;大曝光视场、快速对准技术和高同步扫描速度,可实现高生产率、高性能掩模对准和硅片对准技术以及高精度工件台掩模台控制精度,可满足高套刻精度要求。

SSA600/10型步进扫描投影光刻机具有以下优良特性:

高性能193nm ArF准分子激光光源

高性能投影物镜系统,最大数值孔径0.75

支持离轴照明等多种分辨率增强技术,最高分辨率100nm

高速全场对准和高速同步扫描曝光实现高产率

高精度掩模对准和硅片对准系统,对不同硅片工艺具有良好的工艺适应性

高精度六自由度掩模台/工件台定位控制系统

高性能、高可靠性、低生产成本(COO)

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