淘客熙熙

主题:3nm准官宣了:即将发表的论文 -- 陈王奋起

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家园 这个工艺只能做划线

bridge , cut没法做,实际只做划线的话有很多低成本的方式

自对准图案化,做1-3层金属层良率并不高,

成本倒是可以跟euv有的拼, 而且tsmc 450w euv上来后速度未必有优势

技术确实可以进步, 像去年做n3b,成本和良率都很难接受,也就是苹果能扛。

但是今年n3e上了以后,就好不少,高通,苹果,amd, intel都准备用

通宝推:肖肖,
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