主题：【原创】雪夜妖谈-引子 -- 夜如何其
共:💬1384 🌺14859 🌵366
即使E U V，波长13.5 nm 也比7 nm 大，目前 EUV 光刻机镜头数值孔径很小，单次曝光不可能达到有清晰边缘的 7 nm 结构。。。也得多次。更别说波长长一个量级的 D U V 光刻机。。。。
作者 对本帖的 补充(1)
理论光学聚集分辨率就是 20+ nm。。。
制造10纳米以下，必需要复杂的 pattern 干涉才行。。。
- 相关回复 上下关系8
压缩 25 层
🙂你这说的完全错误 5 moletronic 字66 2023-09-08 14:34:16
🙂你这帽子有点大 6 南门桥 字757 2023-09-11 00:09:36
🙂7nm一次曝光能做到？ 11 大山猫 字196 2023-09-08 09:44:15
🙂不大可能
🙂5nm工艺中最细小的结构-鳍的物理尺寸大约是36~38nm 7 披狼皮的羊 字0 2023-09-10 11:42:25
🙂工艺啥的决定于最小方向的尺寸吧 4 fakeone 字141 2023-09-11 03:11:33
🙂现在ASML 的EUV光刻机数值孔径0.33 7 fakeone 字121 2023-09-09 22:18:31
🙂算啦，还是等发布会吧，遥遥领先啊 7 吴头楚尾 字18 2023-09-06 09:10:59