主题：【原创】中微半导体45纳米蚀刻机 -- 可梦之

很难真正评价。新闻中提到的那些技术特点实际上都是常识性的。

国内的ＤＲＹ　ＥＴＣＨ设备被ＡＭＡＴ和ＬＡＭ告非常正常。他们的核心技术人员恐怕就是从这两个公司出来。专利问题实际上要高度重视，不是可以不在乎。因为专利问题不能解决，首先就意味着你没法交流。没有人会愿意和你做技术上的交流与合作。再者你的产品也会受到限制。欧美市场一般也进不去了。我怀疑这个专利问题可能不是特别严重，否则ＴＳＭＣ不会接收这个产品的。而且长远看会成为自身的报应。因为你可以抄别人，别人也可以抄你。

你提到的公司应该是ＲＡＭＢＵＳ。它的问题是在参与ＪＥＤＥＣ的标准设计时设下了专利陷井。这些专利目前以在欧美日都被废除。除加州地方法院可能有地方主义的问题外，它以经输掉了与之相关的重要官司。目前的专利制度确实也有很多问题，美国国会当下就正在讨论新的法案。

抄袭最终是不能解决问题的。当年中国引进合成氨，立即就分解模仿了一套，但始终不能正常运转，只有在经过二十余年的基础研究后，９０　年代末中国才能比较有信心的建设类似设备。大型复杂系统，抄是抄不出来的。摆出抄袭有理的架子更是不好。学习是一回事，抄袭是另一回事。做生意不能摆出一幅我是流氓我怕谁的架势的。最终必须是寻求大家都能接收的利益分配。而专利问题是绕不过去的。

ＳＭＩＣ生产ＤＲＹ　ＥＴＣＨ的设备本身是个非常奇怪的事。它是ＦＯＵＮＤＲＹ，为什么要做设备商？我以前对ＳＭＩＣ曾寄以很高希望。现在的看法则是有政府支持对企业的成长恐怕未必是好事。ＳＭＩＣ如果还不能盈利，不知道将来怎么做下去。而盈利的前景实在是不看好。