主题：【原创】中微半导体45纳米蚀刻机 -- 可梦之
家园 感觉是不是就是把ＡＭＡＴ的设备这一块弄来了 有人说ＡＭＡＴ比较ＭＥＡＮ，不知道是不是因此人老外跳，呵呵
家园 突然想到海盗问题 你说到专利问题，其实和历史上的海盗问题有些类似。西班牙强大的时候，英国海军不行，就只能去抢，所以那时候大部分海盗背后都有英国政府的支持。等英国打败了西班牙，强大起来。就开始剿灭海盗了。其实专利就是一个利益斗争的工具。
家园 我也不支持抄袭 事实上，如同你说的，抄袭也是学不来的。只有自己琢磨出来，才能真正掌握，只有有所创新，才能占领市场。更何况，核心的技术你想抄也没地方抄。
我的意思是说，因为美国等国家在科技上领先，已经在前面所有的路上都设置了专利，你在后面赶超，根本不可能绕过这个问题。无论你怎么走，都会告你侵权。而全面赶超，创建自己的体系还需要一段时间的技术积累。所以专利纠纷是必然经过的阶段。作为国内厂商，应该将主要经历放在研发和市场推广，而不是被专利问题束手束脚。当然不是说鼓励去抄袭。更何况，成功是不能重复的。你抄袭别人的，那就肯定在人家的后面。能有汤水喝就不错了，还怎么去超越。
现在欧美公司怕的不是中国厂商的抄袭，因为谁都明白抄袭是没有前途的。他们真正害怕的是中国公司在一些领域已经自己琢磨明白了。再这样下去，就能研制出自己的产品，这样他们就没有好日子过了。就好像华为一样，一直被说抄袭cisco。但是说实话，抄袭cisco的公司多的是，美国就有一堆。只有你自己研究透了，才能占领市场。只是网络整个框架和标准大部分都是cisco定的，你不符合他的标准就没有办法用。而你符合他的标注，类似的问题很难有迥异的解决方法，那就说你侵犯专利。这个问题只有等华为成长到足够大了，能够参与订立行业标准才能解决。不过那个时候如果有新的竞争者出现，就成了华为告别的公司侵犯专利了。我们应该承认成长的过程中多多少少有抄袭，但是成功的原因肯定不是抄袭。否则cisco也不会撤诉了。
事实上，专利的历史并不长。只是先进公司保持自己垄断的一种手段。它对知识创新客观上有好处。但是现在也有不少问题，有时候反而阻止了知识创新。
政府支持企业有利有弊。有成功的，比如日韩一些大公司，背后都有政府的身影。当然照顾太多就失去了竞争力。我觉得应该避免的是无条件的支持，而是真正支持那些有技术，有竞争力的公司。因为大多时候，决定一个公司成败的往往不是技术。面对IT巨头庞大的资金和资源，没有政府的支持，刚冒出个苗头来就被直接按死了。美国公司内部还可以相对公平的竞争，但是中国的公司插进去想要那个公平的环境，就很困难了。
家园 what type of etcher it is for 200mm or 300 mm product line?
ICP? RIE? downstream asher? or metal etcher?
For Si, for low k oxide, for high k HfO, for nitride?
fluorine based or chlorine based?
it's for trench etch, bosch etch, via etch...?
too many unknown, hard to tell how big advance it is.
家园 tsmc的45nm工艺 不是high k/metal gate的。45nm用high k/metal gate的好像只有intel。
估计是300mm的。我想tsmc现在不会再上200mm设备。
看新闻，该设备用的是等离子。不用区分fluorine 或者 chlorine 吧。
家园 随便说一点自己知道的 我有个朋友最近在上海搞半导体行业的调研。他刚去过中微。据他讲，中微的经营业绩并不是很好，感觉像是在苦苦支撑。而且好像就是制成设备这块没有什么突破。不过朋友也没有什么半导体专业背景知识。
看了一下新闻，好像说得也不是很肯定，只是试用而已。
家园 光刻机还是基础问题 市场的一半以上是ASML，剩下是尼康和佳能，ASML的背后叫zeiss。看看这三个名字，就知道中国离高端光刻机有多远了，等国产相机满街跑的时候才有可能突破的。
靠山寨是没前途的，可以山寨一时不能山寨一世的。